Microfabrication of large-area circular high-stress silicon nitride membranes for optomechanical applications

Journal article (2016)

Authors

E. Serra Electronic Components, Technology and Materials - EEMCS , Trento Institute for Fundamental Physics and Application
M. Bawaj Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia, University of Camerino
B. Morana EKL-Users - EEMCS
Riccardo Natali Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia, University of Camerino
G. Pandraud EKL Processing - EEMCS
A. Pontin University of Florence, Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Firenze
G.A. Prodi Trento Institute for Fundamental Physics and Application, Università di Trento
Massimiliano Rossi University of Camerino
Pasqualina M Sarro Electronic Components, Technology and Materials - EEMCS
David Vitali Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia, University of Camerino
M. Bonaldi Institute of Materials for Electronics and Magnetism, Nanoscience-Trento-FBK Division, Trento Institute for Fundamental Physics and Application
A. Borrielli Trento Institute for Fundamental Physics and Application, Institute of Materials for Electronics and Magnetism, Nanoscience-Trento-FBK Division
G. Di Giuseppe Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia, University of Camerino
S. Forte EKL Processing - EEMCS , Università di Trento
Nenad Kralj University of Camerino
N. Malossi Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Perugia, University of Camerino
L. Marconi University of Florence, Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Firenze, CNR-INO
F. Marin University of Florence, Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Firenze, European Laboratory for Non-linear Spectroscopy (LENS)
F. Marino CNR-INO, Istituto Nazionale di Fisica Nucleare - Sezione di Firenze
Research Group
Electronic Components, Technology and Materials (EEMCS) (TU Delft)
Copyright: © 2016 E. Serra, M. Bawaj, A. Borrielli, G. Di Giuseppe, S. Forte, N. Kralj, N. Malossi, L. Marconi, F. Marin, F. Marino, B. Morana, R. Natali, G. Pandraud, A. Pontin, G.A. Prodi, M. Rossi, Pasqualina M Sarro, D. Vitali, M. Bonaldi
DOI: https://doi.org/10.1063/1.4953805
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Published Date

2016

Language

English

Faculty

Electrical Engineering, Mathematics and Computer Science

Department

Microelectronics

Research Group

Electronic Components, Technology and Materials

Abstract

In view of the integration of membrane resonators with more complex MEMS structures, we developed a general fabrication procedure for circular shape SiNx membranes using Deep Reactive Ion Etching (DRIE). Large area and high-stress SiNx membranes were fabricated and used as optomechanical resonators in a Michelson interferometer, where Q values up to 1.3 × 106 were measured at cryogenic temperatures, and in a Fabry-Pérot cavity, where an optical finesse up to 50000 has been observed.